硅外延用三氯氢硅
Trichlorosilane for silicon epitaxial
国家标准《硅外延用三氯氢硅》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位 中锗科技有限公司 、南京国盛电子有限公司 、南京中锗科技股份有限公司 。
主要起草人 赵立奎 、张莉萍 、谭卫东 、金龙 、刘新军 、郑华荣 。
目录
1标准状态
- 发布于2014-12-31
- 执行于2015-09-01
- 废止于
2基础信息
- 标准号
- GB/T 30652-2014
- 发布日期
- 2014-12-31
- 实施日期
- 2015-09-01
- 中国标准分类号
- H83
- 国际标准分类号
- 29.045
- 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
3起草单位
4起草人
5相近标准（计划）
YS/T 1059-2015 硅外延用三氯氢硅中总碳的测定 气相色谱法- 20162492-T-469 硅外延片
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