硅外延片
Silicon epitaxial wafers
国家标准《硅外延片》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位 宁波立立电子股份有限公司 。
主要起草人 许峰 、刘培东 、李慎重 、谌攀 。
目录
1标准状态
- 发布于2009-10-30
- 执行于2010-06-01
- 废止于
2基础信息
- 标准号
- GB/T 14139-2009
- 发布日期
- 2009-10-30
- 实施日期
- 2010-06-01
- 全部代替标准
- GB/T 14139-1993
- 中国标准分类号
- H80
- 国际标准分类号
- 29.045
- 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
3起草单位
4起草人
5相近标准（计划）
20162492-T-469 硅外延片- GB/T 35310-2017 200mm硅外延片
- GB/T 30652-2014 硅外延用三氯氢硅
- GB/T 14142-2017 硅外延层晶体完整性检验方法 腐蚀法
- GB/T 14146-2009 硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法
- YS/T 1059-2015 硅外延用三氯氢硅中总碳的测定 气相色谱法
- YS/T 15-2015 硅外延层和扩散层厚度测定 磨角染色法
- SJ/T 10481-1994 硅外延层电阻率的面接触三探针方法
- YS/T 23-2016 硅外延层厚度测定 堆垛层错尺寸法
- GB/T 14847-2010 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法
