Measurement method for surface metal contamination on sapphire polished substrate wafer
国家标准《蓝宝石抛光衬底片表面残留金属元素测量方法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位 天通控股股份有限公司 。
主要起草人 康森 、宋岩岩 、邵峰 、沈瞿欢 、於震杰 。
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