Guidelines for photomask defect classification and size definition
国家标准《光掩模缺陷分类和尺寸定义的准则》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位 中国科学院微电子中心 。
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