硅片局部平整度非接触式标准测试方法
Standard test methods for measuring site flatness on silicon wafers by noncontact scanning
国家标准《硅片局部平整度非接触式标准测试方法》由339-1（工业和信息化部（电子））归口上报及执行，主管部门为工业和信息化部（电子）。
主要起草单位 洛阳单晶硅有限责任公司 。
目录
1标准状态
- 发布于2005-09-19
- 执行于2006-04-01
- 废止于
2基础信息
- 标准号
- GB/T 19922-2005
- 发布日期
- 2005-09-19
- 实施日期
- 2006-04-01
- 中国标准分类号
- H17
- 国际标准分类号
- 77.040.01
- 归口单位
- 工业和信息化部（电子）
- 执行单位
- 工业和信息化部（电子）
- 主管部门
- 工业和信息化部（电子）
3起草单位
4起草人
5相近标准（计划）
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