Practice for conversion between resistivity and dopant density for boron-doped and phosphorus-doped silicon
国家标准《掺硼掺磷硅单晶电阻率与掺杂剂浓度换算规程》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位 峨嵋半导体材料研究所 。
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