电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法

Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon ——Inductively coupled-plasma mass spectrometry method

国家标准计划制订推荐性

国家标准计划《电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位江苏中能硅业科技发展有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、有研半导体材料有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、新特能源股份有限公司、洛阳中硅高科技有限公司。

主要起草人鲁文锋、刘晓霞、秦榕、孙燕、赵而敬、王桃霞、赵玉、王忠慧、柳德发、张园园、银波、邱艳梅、刘强。