硅片参考面结晶学取向X射线测试方法
Method for measuring crystallographic orientation of flats on single-crystal silicon slices and wafers by X-ray techniques
国家标准《硅片参考面结晶学取向X射线测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位 有研半导体材料股份有限公司 。
主要起草人 孙燕 、卢立延 、杜娟 、翟富义 、高玉锈 。
目录
1标准状态
- 发布于2009-10-30
- 执行于2010-06-01
- 废止于
2基础信息
- 标准号
- GB/T 13388-2009
- 发布日期
- 2009-10-30
- 实施日期
- 2010-06-01
- 全部代替标准
- GB/T 13388-1992
- 中国标准分类号
- H80
- 国际标准分类号
- 29.045
- 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
有研半导体材料股份有限公司