平面磁控溅射镀膜靶材光学薄膜用硅靶
Flat magneting sputtering target Optical coating for Si target
国家标准计划《平面磁控溅射镀膜靶材光学薄膜用硅靶》由TC103（全国光学和光子学标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为中国机械工业联合会。
主要起草单位 利达光电股份有限公司 。
1项目进度
- 网上公示
- 起草
- 终止
- 征求意见
- 审查
- 批准
- 发布
2基础信息
- 计划号
- 20081578-T-604
- 制修订
- 制订
- 项目周期
- 24个月
- 下达日期
- 2008-11-03
- 归口单位
- 全国光学和光子学标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国光学和光子学标准化技术委员会
- 主管部门
- 中国机械工业联合会
3起草单位
4相近标准（计划）
YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶- YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
- GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶
- JB/T 8945-2010 真空溅射镀膜设备
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