基片上抗蚀剂膜厚度测量所涉及参数规范
国家标准计划《基片上抗蚀剂膜厚度测量所涉及参数规范》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位 中国科学院微电子中心 。
目录
1项目进度
- 网上公示
- 终止
- 起草
- 征求意见
- 审查
- 批准
- 发布
2基础信息
- 计划号
- 20000352-T-491
- 制修订
- 制订
- 项目周期
- 84个月
- 下达日期
- 2005-12-14
- 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
3起草单位
4相近标准（计划）
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