Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Method for depth profiling of arsenic in silicon
国家标准《表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法》由TC38(全国微束分析标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位 中国电子科技集团公司第四十六研究所 。
主要起草人 马农农 、陈潇 、何友琴 、王东雪 。
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