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电磁屏蔽膜 化学镀铜溶液 镍离子和铜离子含量测定方法

Electromagnetic interference shielding Film - Electroless copper plating solution - Method of determining concentration of Ni2+ and Cu2+

国家标准 推荐性 现行

国家标准《电磁屏蔽膜 化学镀铜溶液 镍离子和铜离子含量测定方法》由TC431(全国光学功能薄膜材料标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为中国石油和化学工业联合会。

主要起草单位 中国乐凯胶片集团公司乐凯胶片股份有限公司化学工业影像材料和照相化学品质检中心

主要起草人 韩明星李宝民

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