Electromagnetic interference shielding Film - Electroless copper plating solution - Method of determining concentration of Ni2+ and Cu2+
国家标准《电磁屏蔽膜 化学镀铜溶液 镍离子和铜离子含量测定方法》由TC431(全国光学功能薄膜材料标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为中国石油和化学工业联合会。
主要起草单位 中国乐凯胶片集团公司 、乐凯胶片股份有限公司 、化学工业影像材料和照相化学品质检中心 。
主要起草人 韩明星 、李宝民 。