High-Purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film
国家标准《电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材》由TC243(全国有色金属标准化技术委员会)归口上报,TC243SC1(全国有色金属标准化技术委员会轻金属分会)执行,主管部门为中国有色金属工业协会。
主要起草单位 有研亿金新材料股份有限公司 、宁波江丰电子材料有限公司 、新疆众和股份有限公司 。
主要起草人 万小勇 、罗俊锋 、廖赞 、尚再艳 、杨华 、朱晓光 、孙秀霖 。