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硅基MEMS制造技术 以深刻蚀与键合为核心的工艺集成规范

Silicon-based MEMS fabrication technology—Specification for criterion of the combination of the deep etching and bonding process

国家标准 推荐性 现行

国家标准《硅基MEMS制造技术 以深刻蚀与键合为核心的工艺集成规范》由TC336(全国微机电技术标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位 北京大学中机生产力促进中心大连理工大学北京青鸟元芯微系统科技有限公司

主要起草人 张大成杨芳李海斌王玮何军黄贤刘冲刘伟邹赫麟田大宇姜博岩

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