Silicon-based MEMS fabrication technology—Specification for criterion of the combination of the deep etching and bonding process
国家标准《硅基MEMS制造技术 以深刻蚀与键合为核心的工艺集成规范》由TC336(全国微机电技术标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位 北京大学 、中机生产力促进中心 、大连理工大学 、北京青鸟元芯微系统科技有限公司 。
主要起草人 张大成 、杨芳 、李海斌 、王玮 、何军 、黄贤 、刘冲 、刘伟 、邹赫麟 、田大宇 、姜博岩 。